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CVD化學(xué)氣相沉積裝置

  • 更新時間:  2024-04-25
  • 產(chǎn)品型號:  
  • 簡單描述
  • CVD化學(xué)氣相沉積裝置由升華室、反應(yīng)室、氣路系統(tǒng)、和真空系統(tǒng)組成,采用智能化程序控溫系統(tǒng),可控硅控制,控溫精度高;內(nèi)置多個溫區(qū),可以營造不同的溫度梯度。用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實驗、真空退火等。
詳細(xì)介紹

    CVD化學(xué)氣相沉積裝置由升華室、反應(yīng)室、氣路系統(tǒng)、和真空系統(tǒng)組成,采用智能化程序控溫系統(tǒng),可控硅控制,控溫精度高;內(nèi)置多個溫區(qū),可以營造不同的溫度梯度。用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實驗、真空退火等。

1、升華室主要包括有不銹鋼容器,不銹鋼高溫閥、壓力表、電熱合金絲發(fā)熱體、質(zhì)子流量計、熱電偶、溫控裝置和保溫系統(tǒng)。主要用于對前驅(qū)體的加熱升華和調(diào)控通入反應(yīng)室的氣體流量, 控溫溫度可以在100-700℃之間自由設(shè)定,由K分度號熱電偶+精密數(shù)顯程序控溫儀實現(xiàn)升華室溫度的自動程序升降,控溫精度:±1℃,升華室配置數(shù)量為2個。

2、反應(yīng)室主要包括不銹鋼容器、壓力表、質(zhì)子流量計、電熱合金絲發(fā)熱體、熱電偶、溫控系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、保溫系統(tǒng)、載物臺??販販囟瓤梢栽?00-900℃之間自由設(shè)定,由K分度號熱電偶+精密數(shù)顯程序控溫儀實現(xiàn)反應(yīng)室溫度的自動程序升降,控溫精度:±1℃,反應(yīng)室配置數(shù)量為1個。

3、氣路系統(tǒng)采用∮6×1mm,316L材質(zhì)不銹鋼管實現(xiàn)氣體的運輸、氣體流量的精確控制、減壓閥的準(zhǔn)確快速切換以及廢氣的處理。在氣體運輸過程中,需要對管道進(jìn)行加熱保溫處理,防止混合氣體在運輸過程中發(fā)生冷凝,加熱系統(tǒng)由K分度號熱電偶+智能數(shù)顯控溫儀+電熱合金絲發(fā)熱體實現(xiàn)氣路管道的溫度控制,控溫精度:±1℃。

4、真空系統(tǒng)主要用于控制反應(yīng)室內(nèi)壓強,保證化學(xué)氣相沉積反應(yīng)能在預(yù)定的壓強下進(jìn)行實驗,真空度:10Pa。

 

CVD化學(xué)氣相沉積

化學(xué)氣相沉積反應(yīng)裝置

CVD管式爐

 

 


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